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     宣称2 奈米制程技术良率突破,三星再提超越台积电目标

宣称2 奈米制程技术良率突破,三星再提超越台积电目标

【卡城华人网 www.calgarychina.ca】  2025-10-22 10:48
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【卡城华人网】宣称2 奈米制程技术良率突破,三星再提超越台积电目标

韩国三星近日在先进半导体技术领域方面展现出强劲的信心,该公司高层对其2 奈米GAA(Gate-All-Around)制程的发展进度表达高度乐观。竞争对手SK 海力士(SK hynix)企业总裁Song Hyun-jong 也强调,这项制造技术将成为一个「关键的转捩点」。目前,2 奈米GAA 制程技术的晶圆量产已于9 月下旬启动,首款采用此技术的晶片为即将问世的三星自研SoC-Exynos 2600。



根据朝鲜日报报导,在总统办公室政策首席Kim Yong-beom 主持的一场关于半导体产业议题的会议中,三星设备解决方案部门总裁兼技术长Song Jae-hyuk 对2 奈米GAA 制程给予极多正面的评价。相较于前几年,三星晶圆代工业务表现不佳,使台积电攻占了市场大部分比率情况,目前看来三星终于有所转变。报告指出,三星已将其2 奈米GAA 的良率目标,从原订的50% 大幅提高至70%,并且预计在2025 年底达成。

报导引用一位接近知情的人士说法表示,这些在高层会议上发表的言论可以被解读为:三星正顺利实现其规划的2 奈米制程良率和晶片性能目标。 Song Jae-hyuk 在会议中暗示了其雄心壮志,希望藉由2 奈米GAA 节点的成功,最终能在全球晶圆代工市场上夺取第一名。不过,他也坦言,在追赶台积电以及应对特定技术与人力资源等挑战时,公司需要政府提供庞大的支持。



另外,三星表示,为确保其在下一代节点中的竞争力,已付出了必要的努力。包括,三星已经完成了第二代2 奈米GAA 制程的基本设计。同时,代号为SF2P+ 的第三代2 奈米GAA 制程,也预计在未来两年内完成开发。

至于,三星首款采用2 奈米GAA 技术的晶片将是三星自研的SoC-Exynos 2600。初步的内部测试结果显示,Exynos 2600 的性能表现非凡。它在多项测试中轻松击败了竞争对手苹果的A19 Pro,以及高通的Snapdragon 8 Elite Gen 5。更值得注意的是,测试数据揭示其AI 性能比A19 Pro 和Snapdragon 8 Elite Gen 5 高出六倍。不过,虽然商业化产品的实际结果可能有所不同,但业界普遍期望三星的2 奈米GAA 技术能够带来实质性的效益。

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